«« Takaisin Tulosta ilmoitus

Jälki-ilmoitus:
VTT Technical Research Centre of Finland Ltd : Oxide Plasma Etch tool

12.10.2017 13:15
Ilmoituksen numero HILMA:ssa: 2017-021835
Ilmoituksen numero EUVL:ssä: 2017/S 197-404604

I kohta: Hankintaviranomainen

I.1) Nimi ja osoitteet
Virallinen nimi:VTT Technical Research Centre of Finland Ltd
Kansallinen yritys- ja yhteisötunnus:FI26473754
Postiosoite:P.O. Box 1000
Postinumero:02044
Postitoimipaikka:VTT
Maa:Suomi
Puhelin:+358 20722111
Sähköpostiosoite:kilpailutus@vtt.fi
Faksi:+358 207227001
NUTS-koodi:Suomi (FI)
Pääasiallinen osoite: (URL)http://www.vttresearch.com/
Hankkijaprofiilin osoite: (URL)http://www.vttresearch.com/
I.4) Hankintaviranomaisen tyyppi
Julkisoikeudellinen laitos
I.5) Pääasiallinen toimiala
Research and Development

II kohta: Kohde

II.1) Hankinnan laajuus

II.1.1) Nimi:
Oxide Plasma Etch tool
Viitenumero:
Reg. no 281/206/2017
II.1.2) Pääasiallinen CPV-koodi:
Erillistoiminnoin varustetut koneet ja laitteet. (31640000-4)
II.1.3) Sopimuksen tyyppi
Tavarahankinnat
II.1.4) Lyhyt kuvaus:

The object of the tender process was to acquire a plasma etch tool capable of etching oxide and dielectric layers. The tool had to be of industry-standard performance and high reliability.

II.1.6) Osia koskevat tiedot
Tämä sopimus on jaettu osiin: ei
II.1.7) Hankinnan kokonaisarvo
Arvo ilman alv:tä: 598000.00 EUR

II.2) Kuvaus

II.2.3) Suorituspaikka
Suomi (FI)
II.2.4) Kuvaus hankinnasta:

VTT Microelectronics is currently expanding the research and production capabilities of its wafer processing line. To accomplish this we are looking for a plasma etch tool with very specific hardware configuration which can both match and expand upon our existing dielectric etch capabilities, currently using a Lam 4520. The tool must be a capacitively coupled, dual frequency plasma etcher capable of achieving the specified selectivity, profile, and etch rates requirements. Reliability and wafer handling are of paramount importance.

II.2.5) Hankintasopimuksen tekoperusteet
PerustePainotus:
Laatuperuste (jos käytetään parasta hinta-/laatusuhdetta): Total uptime40
Laatuperuste (jos käytetään parasta hinta-/laatusuhdetta): Supporting documentation30
Hinta 30
II.2.11) Tietoa lisähankintamahdollisuuksista
Lisähankintamahdollisuudet: ei
II.2.13) Tietoa Euroopan unionin rahastoista

Hankinta liittyy Euroopan unionin varoin rahoitettavaan hankkeeseen ja/tai ohjelmaan: ei

IV kohta: Menettely

IV.1) Kuvaus

IV.1.1) Menettelyn luonne

Avoin menettely

IV.1.8) Tietoa WTO:n julkisia hankintoja koskevasta sopimuksesta (GPA)
Hankintaan sovelletaan julkisia hankintoja koskevaa sopimusta: kyllä

IV.2) Hallinnolliset tiedot

IV.2.1) Samaa menettelyä koskeva aiempi julkaisu
Ilmoituksen numero EUVL:ssä: 2017/S 118-236538

V kohta: Sopimuksen tekeminen

Nimi:
Oxide Plasma Etch tool

V.2) Sopimuksen tekeminen

Sopimus/osa toteutuu
kyllä
V.2.1) Sopimuksen tekemisen päivämäärä:
9.10.2017
V.2.2) Tietoa tarjouksista
Saatujen tarjousten lukumäärä:1
Sähköisesti toimitettujen tarjousten lukumäärä:1
Sopimus on tehty taloudellisten toimijoiden ryhmän kanssa: ei
V.2.3) Sopimuskumppanin nimi ja osoite
Ryhmän edustajan virallinen nimi:Ichor Systems Ltd
Kansallinen yritys- ja yhteisötunnus:GB8093 88592
Postitoimipaikka:Blantyre
Maa:Yhdistynyt kuningaskunta
NUTS-koodi:Muu kuin Suomi (FIZ)
Toimittaja on pk-yritys: ei
V.2.4) Tiedot sopimuksen/osan arvosta (ilman alv:tä)
Sopimuksen/osan alustava arvioitu kokonaisarvo:598000.00 EUR
Sopimuksen/osan kokonaisarvo:598000.00 EUR

VI kohta: Täydentävät tiedot

VI.4.1) Muutoksenhakuelin
Virallinen nimi:Markkinaoikeus
Postiosoite:Radanrakentajantie 5
Postinumero:00520
Postitoimipaikka:Helsinki
Maa:Suomi
Puhelin:+358 295643300
Sähköpostiosoite:markkinaoikeus@oikeus.fi
Faksi:+358 295643314
Internet-osoitehttp://www.oikeus.fi/markkinaoikeus
VI.5) Tämän ilmoituksen lähettämispäivä:
9.10.2017
«« Takaisin